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光刻技术

佳能NIL与中国LDP谁能挑战ASML?EUV一枝独秀之谜待解

2025年5月9日 作者 fme

众所周知,光刻技术是现代半导体制造的核心,直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。不过,近日

分类 投影变换 标签 ASML、 EUV光刻、 LDP技术、 NIL技术、 光刻技术 发表评论

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近期评论

  1. zhou 发表在 压缩软件的秘密:数据能否被无限压缩?
  2. pharmacy on line 发表在 XML:超越想象的超级力量,颠覆认知的数据魔法师
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